刻蚀机作为芯片制作的完好过程中的关键设备,重要程度不亚于光刻机。同光刻机相同,刻蚀机对精度的要求极端苛刻,其钻头仅有一根发丝的宽度,却要完结数以亿计的打孔使命。令人自豪的是,
提到中微半导体,就必须提创始人尹志尧。在美国加利福尼亚大学读完研的尹志尧,结业后在英特尔作业一段时刻后,便被Lam请去做刻蚀机研制作业。不过五年的时刻,Lam便在刻蚀机范畴跻身全球榜首。不过,后来Lam呈现了内部管理问题,所以使用资料看准机遇挖走了尹志尧。
尹志尧在使用资料作业的13年里,带领公司刻蚀机事务快速的提高,终究使用资料便挤掉Lam坐上了榜首的方位。尹志尧,肯定是刻蚀机职业大佬级的人物,抢手程度不难想象。不过,在2004年,年过六旬的尹志尧带领着研制团队,挑选了回国,并创建了中微半导体。
通过16年的开展,中微半导体渐渐的变成了我国仅有的,也是全球抢先的刻蚀机巨子。尽管尹志尧关于刻蚀机的制作工艺了然于心,可是他理解美国知识产权控制的苛刻,不想惹上官司。所以,尹志尧与团队最早做得是对海外专利的研讨,然后才开端国产蚀刻机的研制。
中微半导体从65nm做起,对业界刻蚀机巨子穷追不舍,在企业建立三年后,首台CCP刻蚀设备冷艳露脸,打破我国刻蚀机范畴的空白。并且,该CCP刻蚀设备还一举打入了海外商场,令人瞩目。尔后,中微半导体不断寻求更高精度刻蚀机,现在,更是打破5nm刻蚀机。
在2019年,中微半导体交给5nm刻蚀机。在开展过程中,除遇技能难题外,中微半导体还遭到了来自使用资料、英特尔于Lam三家的轮流申述,理由是中微盗取专利。可是,尹志尧对此早有预备,因而,在长达11年的官司里三家并没有讨到优点,终究宽和。
用11年的时刻,中微半导体从65nm到5nm,生长速度不得不令人赞赏。而在2019年,中微半导体成功登陆科创板,同年,其营收也增加至19.47亿元。接下来,中微半导体将投身于3nm刻蚀机的研制,等待其体现。
特别声明:以上内容(如有图片或视频亦包含在内)为自媒体渠道“网易号”用户上传并发布,本渠道仅供给信息存储服务。
净亏161亿!美国正式揭露宣告报复,美媒:禁售美光结果很严重
上一篇:中微公司:公司正在开发新一代的刻蚀机
下一篇:两位“80后”挑战“卡脖子”技术 研发离子源设备